Residual stress measurement of physical vapor deposition (PVD) AlTiN thin films a comparative study of x-Ray diffraction-, Raman spectroscopic and ring core method
| Kategorien |
Zeitschriften/Aufsätze |
| Jahr | 2026 |
| Autorinnen/Autoren | Petersen, H.; Heckemeyer, A.; Breidenstein, B.; Kahra C.; Herbst, S.; Rümenapf, F.; Filipe Lopes Dias, N.; Denkmann, N.; Tayyab, M.; Bergmann, B.; Donnerbauer, K.; Walther, F.; Tillmann, W.; Debus, J.; Maier, H. J.; Bobzin; K.; |
| Veröffentlicht in | Int. J. Adv. Manuf. Technol., 2026 |
| DOI | 10.1007/s00170-026-18314-z |
