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MF-Anlage auf Basis einer Balzers PLS 570

Bei der MF-Magnetronsputteranlage handelt es sich um den Umbau eines gebraucht erworbenem Hochvakuum-Laborsystems vom Typ PLS 570 (A. Pfeiffer Vakuumtechnik Wetzlar GmbH). Die Anlage dient zur Herstellung von PVD Schichten und wird über eine Magnetronsputterkathode (200 mm x 80 mm) verfügen, die mit einem 10 kW Mittel Frequenz Generator (5 kHz bis 350 kHz) betrieben wird.

Als Prozessgase können Argon, Sauerstoff und Stickstoff und Gemische dieser Gase über Massen-Fluß-Regler nach der Evakuierung der Vakuumkammer eingeleitet werden. Die Anlage wird darüber hinaus über eine „Upstream Pressure Control“ verfügen. Mit Hilfe der Massen-Fluß-Regler und einem angeschlossenen Druckmessgerät kann die Menge des eingeleiteten Prozessgases automatisch so geregelt werden, dass in der Vakuumkammer während des Beschichtungsprozess ein konstanter Druck und ein konstantes Mischungsverhältnis der Gase vorherrscht. Dies sorgt für eine erhöhte Reproduzierbarkeit der Beschichtungsprozesse und erleichtert die Entwicklung neuer Beschichtungsprozesse. Die Anlage wird für die Herstellung von metallischen und besonders für oxydische und nitrierte PVD Schichten (zB. TiO2, TiN) verwendet werden.

Ansprechpartner: Philip Dellinger und Daniel Wulff

Technische Details:

  • Im Aufbau!